2017年9月7日  摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了

研磨时，选择合理的运动轨迹，对提高研磨效率、工件的表面质量和研具的耐用度都有直接的影响。 1、直线形 直线研磨运动的轨迹不能相互交错，否则容易直线重迭，使工件难以

研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受强制的机

2018年6月1日  摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱

针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,X

2018年5月12日  摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏

2018年7月7日  载鄄再平面联动的平面研磨加工原理 载鄄再平面联动研磨袁是在保持研磨盘回转运动的基础上工件被夹具固定于磁性工作台上同工作曰袁台一起做回转运动渊通过

建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。

平面研磨的运动模型 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数

摘要： 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理 从节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,根

2018年4月2日  平面研磨的运动轨迹及原平面研磨的运动轨迹及原苏制砂机这两年在矿山市场中一路飞跃，发展火爆程度让人瞠目结舌，黎明制砂机用自己过硬的技术一步一步向前进。 Crusher often serves as commonly used equipment on large construction site, use pair of

2015年4月16日  喜欢该文档的用户还喜欢 文章编号:02)行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析大连理工大学机械工程学院,辽宁大连摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下工件

手工研磨的运动轨迹，一般采用直线、摆线、螺旋线和仿“8”字形等几种。 不论哪一种轨迹的研磨运动，其共同特点是工件的被加工面与研具工作面做相密合的平行运动。 这样的研磨运动既能获得比较理想的研磨效果，又能保持研具的均匀磨损，提高研具的

直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。螺旋形研磨运动轨迹，能获得较低的 表面粗糙度 和较高的平面度，主要适用于研磨圆片或圆柱形工件的端面。“8”字形和仿“8”字形研磨运动轨迹

平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 的位置所经历的修盘器磨片磨削次数明显高于中径， 各区域内交点个数最多的有293，最少的只有148，交 点个数的标准偏差达到了50，因此必须通过优化修盘 器上磨片的分布才能达到理想的轨迹分布。 通过优化修盘器各

研磨机研磨运动轨迹分析 供了理论依据。 wenkubaidu 要的 自转和公转运 动。 为实现这种运动要求 ，作者采 用差动轮系 ，其机构简图如图 1 所示 。 2 运动 分析 研磨 时 ，研具 与工件之 间所做 的相对运动 ，称为 研磨 运动。 在研 磨 运动 中，研 具

2015年1月13日  第38卷第6期机械工程学报v。1．38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要：分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理，以节点、节圆入手，将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动，分析了

2019年3月17日  机电机械68018年11月0双面研磨运动轨迹模拟与分析郭晓峰范飞戚振华王献伟洛阳金诺机械工程有限公司，河南洛阳摘要：本文建立行星式双面研磨机行星轮运动轨迹的数学模型，利用VB软件对研磨轨迹进行了研究，分析不同研磨盘转速、不同速比下的相对运动轨迹状态及对研磨质量的影响。通过

2 研磨轨迹的分类 21 研磨轨迹的介绍 研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受强制的机构控制，以便于保证工件的几何形状精度。

2017年9月7日  建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。 对试件研磨表面的平面度与粗糙度进行检测，验证了研磨轨迹曲线仿真方法的

摘要： 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了

2018年5月12日  摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著，而偏摆角速度（取到非特殊值时）对轨迹非均匀性影响很小。

2021年9月3日  平面研磨运动轨迹可分为手工研磨的运动轨迹和机械研磨的运动轨迹两种。其中，手工研磨的运动轨迹包括：直线往复式、摆动直线式、螺旋式及“8”字形式等几种形式；机械研磨的运动轨迹包括：外摆线式、内摆线式、直线往复式、正弦曲线式及无规则圆环线（螺旋形）式等几种形式。

2013年11月10日  《机床与液压》004．No．3lO9行星式平面研磨机床的运动方式及其轨迹和运动参数的研究施俊侠，颜柏桦，张迎卫1．茂名学院，茂名55000；．国防科技大学，长沙；3．衡阳量具刃具总厂，衡阳41007摘要：作者首先介绍了硬质合金刀片端平面研磨机的几种运动方式；接着分析行星式平面研磨机的

2018年6月1日  平面研磨的运动轨迹及原 T21:02:18+00:00 平面研磨轨迹的研究 百度文库 研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受

本次设计采用齿轮传动的卡盘夹具式行星式双面研磨机构，通过太阳轮的转动来带动多个行星轮的公转和自转运动实现多个工件同时研磨。 进一步的运动学几何仿真验证了不同速比下轨迹的变化情况，通过选择合适的I值可以得到更好的研磨效果，从而提高了

平面研磨机的优缺点,设计了一种新的平面研磨机,着重对此研磨机的运动和运动轨迹3 羡一民双频激光干涉仪的原理与应用(一)[J]工具技术1996年04期 4 李志可靠性工程、工业工程、流体传动与控制(E辑)2002, Vol 38 Issue (6): 144基于行星式平面研磨机研抛过程的

2012年8月8日  平面研磨抛光轨迹平面研磨抛光轨迹研究，袁巨龙2,3 (1浙江工业大学教育科学与技术学院，杭州浙江工业大学机械制造与自动化教育部重点实验室，杭州湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心，长沙)介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法

第4章在分析双平面研磨加工原理的基础上，对工件的受力情况进行了分析和仿真，同时运用ADAMS软件进行了研磨轨迹仿真分析。第5章在第4章分析得出的优化工艺参数基础上，采用滑模控制策略开展了对比研磨试验，验证了双平面研磨加工的有效性。

2013年6月12日  1、研磨运动轨迹(1)研磨运动研磨时，研具与工件之间所作的相对运动称为研磨运动。其目的是实现磨料的切削运动。它的运动状况如何，直接影响研磨质量和研磨效率及研具的耐用度。因此，研磨运动既要使工件均匀地接触研具的全部表面，又要使工件受到均匀研磨，即被研磨的工件表面上每一点

基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点,节圆入手,将复杂的研 抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘,研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及

2015年9月16日  设计一种系统，可以对研磨运动轨迹进行在线检测，完成相关系统的软硬 件设计。 研磨运动轨迹在线检测系统设计 第二章平面研磨轨迹总体方案 21 平面研磨的运动条件及工作原理 211 研磨运动条件 研磨是利用磨具通过磨料作用于工件表面，进行微量加工的

2016年4月10日  行星式双面研磨是蓝宝石基片平面加工的重要手段,加工过程中磨粒轨迹的均匀性对工件的加工精度和表面质量有着重要的影响。 通过运动学分析建立了双面研磨磨粒轨迹方程和速度方程,提出一种基于 Matlab 离散统计的磨粒轨迹均匀性定量评价方法,并求取设定

2019年4月2日  其中，手工研磨的运动轨迹包括：直线往复式、摆动直线式、螺旋式及“8”字形式等几种形式；机械研磨的运动轨迹包括：外摆线式、内摆线式、直线往复式、正弦曲线式及无规则圆环线（螺旋形）式等几种形式。 外摆线式 平面研磨盘 当滚圆沿直线作纯滚动

密封面研磨的基本原理包括研磨过程、研磨运动、研磨速度、研磨压力及研磨余量五 运动方向的不断变化使每一磨粒不会在密封圈表面上重复自己运动轨迹,以免造成 其小研磨余量为：直径余量为0008~0020mm；平面余量为0006~0015mm。

分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理 从节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,根据其速比的取值不同,将行星式平面研抛运动归结为3种类型;分析了其轨迹曲线类型 为

2014年3月22日  006年6月总第153期 第3期金刚石与磨料磨具工程DiamondAbrasivesEngineeringJune006Serial153 No3文章编号:100685X00603004604定偏心和不定偏心平面研磨均匀性的研究3赵文宏 周兆忠 文东辉 袁巨龙 郑家锦浙江工业大学精密工程研究中心杭州摘 要 对修正环形抛光机定偏心和不定偏心平面研磨进

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研磨工艺百度百科 2021年1月26日 直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。 螺旋形研磨运动轨迹，能获得较低的 表面粗糙度 和较高的平面度，主要适用于研磨圆片或圆柱形工件的端面。

2023年12月24日  为了提高摆动固定磨料平面研磨 (SFAPL)的表面精度，本文研究了工件摆动方式对研磨均匀性的影响。 根据曲柄摇杆机构的运动学原理，采用坐标变换方法建立了SFAPL的运动学模型。 采用数值模拟方法研究了不同摆动模式下工件表面的磨粒轨迹和ASD。 此外，应用

2018年7月7日  员 西安理工大学机械与精密仪器工程学院西安 员援袁摇苑员园园源愿 圆援陕西工业职业技术学院陕西咸阳袁摇苑员圆园园园 摘要院针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题袁开展了联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究遥载鄄再建立了该载鄄再联动的

2009年5月1日  平面研磨的运动轨迹及原理 研磨机研磨运动轨迹分析《机床与液压》2012年15期 摘要:研磨是一种利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的工艺方法。在平面研磨中,要求工件运动轨迹均匀地遍及整个下载全文 更多同类文献 PDF全文下载。

2017年8月5日  1．38 No6 基于行星式平面研磨机研抛过程的 运动几何学分析 吴宏基曹利新刘健 (大连理工大学机械工程学院大连) 摘要：分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理，以节点、节圆入手，将复杂的研抛运动转化为在 定中心距条件下的两个绕定

本实用新型涉及一种运动轨迹为可调摆线的平面研磨 机构，适用于如光导纤维的端面研磨。它的两个电机均与机架连接并采用齿轮传动，研磨盘轮上均布三个偏心轮5－1、5－2、5－3，每个偏心轮上各固定一个偏心销6－1、6－2、6－3，研磨盘7通过

研磨工艺及方法研磨方法一般可分为湿研、干研和半干研 3 类 首页 文档 视频 音频 文集 文档 公司财报 行业研究 图为常用的平面研磨运动轨迹。为了减少切削热，研磨一般在低压低速条件下进行。粗研的压力不超过03兆帕，精研压力一般采用003～0

行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。 从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动化为在定中心距条件下工作与研磨盘相对于假想系杆的两相绕定轴的回转运动,根据其速比的取值不同,将行星式平面研抛运动归结为3种类型;分析了其轨迹曲线类型。

2015年6月27日  2007年11月第八届全国摩擦学大会论文集 November 2007 平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 卢万佳 （深圳开发磁记录殷份有限公司厂东深圳）摘要：为提高硬磁盘基片平面研磨的加工品质，本文利用计算机仿真对其研磨盘的修盘工艺进行运动学模拟，通过统计修盘 器磨片相对研磨盘所划出的